半导体高端封测废水怎么处理方法|半导体高端封测废水处理案例
半导体技术舒适公测整套搭配涉重废污水——MVR被迫循环系统零排工程
投资项目游戏背景
半导体技术材料顶级公测内容,范围150每立方米/天,是首家半导体技术材料公测服务设施涉重污生产废水 零排内容。公测部门的镀镍、镀铜、引线骨架除污会呈现含镍含铜污生产废水 ,工业区需要"无尾水外排",产水全回收利用于产线。
水体特点与关键点
化工废水以含镍居多(含量10–100毫克/升),伴一少部分铜、锌,pH波动性大(2–12),有光刻胶剩余的的一少部分充分物。测封厂基地紧,规定办理设备占地赔偿小;零排意示着浓水不可能清运多余,应该原生汽化凝结闭环控制。
除工院艺线路
综合走"分质抽取 → 预补救除杂 → 催化沉淀物除镍 → 活性炭过滤 → UF+多级RO → MVR强行配置蒸馏 → 冷凝水水中水回用":
含镍线先调pH到10–11,添加氢被氧化反应钠制成Ni(OH)₂石雕文化沉淀,另加塑炼钠进一步气体吸附残留物镍(塑炼镍Ksp比氢被氧化反应镍更小,也能镍压到0.1毫克/升下类);
放置留水经多材质筛选+物业保安筛选后进UF,再进五级RO,产水之间回产线洗涤;
RO浓水(含盐+残留血本属)进MVR强行性再循环法冷疑器器,强行性再循环法能扛高含盐结渣,冷疑器器带有网络刷洗,不适合堵;
MVR蒸汽加热水赶回工业废水处理水池子,多效蒸发残液委外填埋或做危废处理处理,整体场区无液太外排。
最为关键的环保设备优势反映
MVR二次间歇相对寻常降膜减压蒸馏,间歇水流量高、热传导面很不容易结镍盐/碳酸盐垢,比较适合首测此类"供水量不太大但污水水质杂"的消费场景;立体式化撬装制作占地面比传统式减压蒸馏塘+多效减压蒸馏方案设计小60%以上的;恶臭侧设备配套生物体滤池,把调高池和污泥干化间的恶臭征集后生物降解成CO₂和水,规避首测厂紧挨着办公室区的有味道举报。
进行处理功效与利润
留水镍≤0.1毫克/升、铜≤0.1毫克/升,好于《化学镍废弃物物进行排放口规格》表三;全部都150万每立方/天产水回收利用于公测产线除垢,取代等量新鲜度水;垃圾(蒸发器残液+废水)量比傳統"石雕文化沉淀+进行排放口"方式减约70%。对富士康侧,公测楼盘环境保护监管卡点打伤通;