某半导体行业生产制造厂家因晶圆清晰工艺技术形成含氨废液，出水量200吨/天。废液中除挥发酚外还包含的氟化物和轻微血本属，除理难易度大。内地的排放规则规范挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废液成份及原因 晶圆清晰废气（最主要的来源地）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀环节废水处理工艺：含轻微铜、镍等巨资属，pH值动荡大 CMP研磨抛光化工废水：含硅顆粒及高锰酸盐指数 整理施工工艺环节 用于"耐腐蚀积累+膜分离出来+折点氯化"組合施工工艺： 预工作 ：添加CaCl2除氟，操作pH在7.5-8. 反渗透装置系统软件 ：清理0.01μm左右小粒物 反渗透膜法浓缩液 ：将氟化物沉淀至1000mg/L之上 折点氯化 ：准确度设定氯污泥脱水量，将氟化物应用为惰性气体 阴离子互转 ：后勤保障血本属考核标准 既定目的 挥发酚可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属分量不高于检查限 水使用率达75% 污泥处理制造量少40%